Питательная тканевая маска с чёрной соей Round Lab

Round Lab Soybean Nourishing Sheet Mask Питательная тканевая маска для восстановления и глубокого увлажнения кожи

Для кого
Подходит для нормальной, сухой и чувствительной кожи. Идеальна при сухости, шелушениях, сниженной упругости, нарушенном защитном барьере и ощущении стянутости.

Действие
Маска глубоко увлажняет и питает кожу, устраняет сухость и шелушения, смягчает и делает рельеф более гладким и бархатистым. Укрепляет защитный барьер, снижает чувствительность и раздражение, поддерживает упругость и улучшает общее состояние кожи.

Уникальность
Формула с экстрактом чёрной сои, выращенной в экологически чистом регионе Чонсон в Южной Корее. Маска сочетает питательные липиды, антиоксиданты и восстанавливающие компоненты, которые работают мягко, но эффективно, не перегружая кожу. Тканевая основа из микрофибры плотно прилегает и равномерно распределяет кремовую эссенцию.

Текстура
Нежная кремовая эссенция. Маска комфортна в использовании, не сползает, не оставляет липкости, дарит ощущение мягкости и комфорта.

Активные ингредиенты

• Экстракт чёрной сои (1,000 ppm) — богат белками, антиоксидантами и витаминами группы B, укрепляет кожу, снижает воспаление и замедляет процессы старения.

• Церамиды — восстанавливают защитный барьер, предотвращают потерю влаги, уменьшают сухость и шелушения.

• Сфинголипиды — стимулируют выработку собственных церамидов, делают кожу мягкой и защищённой.

• Холестерол — поддерживает целостность кожного барьера и предотвращает обезвоживание.

• Аденозин — повышает упругость и плотность кожи, оказывает выраженное антивозрастное действие.

• Аллантоин — успокаивает, снижает чувствительность и способствует восстановлению кожи.

• Экстракт цветков мальвы (Althaea Rosea) — смягчает, увлажняет и помогает заживлению.

• Кофеин — улучшает микроциркуляцию, снижает отёчность и защищает кожу от окислительного стресса.

• Дикалия глицирризат — снимает раздражение, успокаивает и смягчает кожу.

Эффект
Глубоко увлажнённая, напитанная и мягкая кожа, уменьшение сухости и раздражений, более ровная текстура и ощущение комфорта.

Применение
После очищения и тонизирования нанесите маску на лицо. Снимите через 20 минут, остатки эссенции аккуратно распределите похлопывающими движениями до полного впитывания.